Zobrazeno 1 - 10
of 56
pro vyhledávání: '"CVD processes"'
Autor:
A. Sagalovych, V. Sagalovych
Publikováno v:
Tribology in Industry, Vol 35, Iss 4, Pp 261-269 (2013)
Production processes of multi-layered Mo-C coatings by the method of chemical vapor deposition (CVD) with the use of organometallic compounds were developed. Coatings are applied on technical purpose steel DIN 1.2379 (H12F1) and DIN 1.7709 (25H2MF (
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/43e50a9f1b574db199033227db7a5d53
Autor:
Juergen Geiser
Publikováno v:
Polymers, Vol 5, Iss 1, Pp 142-160 (2013)
We are motivated to compute delicate chemical vapor deposition (CVD) processes. Such processes are used to deposit thin films of metallic or ceramic materials, such as SiC or a mixture of SiC and TiC. For practical simulations and for studying the ch
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/7a2d8c791943414f89cdf14506126837
Publikováno v:
Eastern-European Journal of Enterprise Technologies; Том 2, № 12 (104) (2020): Materials Science; 6-15
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 2, № 12 (104) (2020): Материаловедение; 6-15
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 2, № 12 (104) (2020): Матеріалознавство; 6-15
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 2, № 12 (104) (2020): Материаловедение; 6-15
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 2, № 12 (104) (2020): Матеріалознавство; 6-15
The process of chemical vapor deposition of Mo and Mo-С coatings was studied by means of thermal decomposition of molybdenum hexacarbonyl. The kinetics of the coating growth in the range of 480 °C–540 °C and the pressure in the reaction volume f
Publikováno v:
BASE-Bielefeld Academic Search Engine
The Lens
Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, Vol 2, Iss 12 (104), Pp 6-15 (2020)
The Lens
Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, Vol 2, Iss 12 (104), Pp 6-15 (2020)
The process of chemical vapor deposition of Mo and Mo-С coatings was studied by means of thermal decomposition of molybdenum hexacarbonyl. The kinetics of the coating growth in the range of 480°C–540°C and the pressure in the reaction volume fro
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::797e201d5b694e1be32530e93e93ae5a
https://zenodo.org/record/3813232
https://zenodo.org/record/3813232
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Goran Kovačević, Branko Pivac
Publikováno v:
Physical Chemistry Chemical Physics
Reaction mechanisms that lead to creation of silicon–nitrogen bonds are studied in detail. These reactions are of fundamental importance for silicon nitride synthesis by plasma enhanced chemical vapour deposition from the gas mixture of silane (SiH
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ba229e71a28031b5db3c1ca376d4e7a5
http://fulir.irb.hr/3327/
http://fulir.irb.hr/3327/
Autor:
Hironobu Umemoto
Publikováno v:
Chemical Vapor Deposition. 16(10-12):275-290
Radical species, including atomic hydrogen, play an important role in the CVD process to prepare high-quality thin solid films. Detailed information on the absolute densities of these radicals under various conditions is needed in order to understand
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.