Zobrazeno 1 - 10
of 41
pro vyhledávání: '"CF4 decomposition"'
Publikováno v:
Molecules, Vol 29, Iss 21, p 5179 (2024)
This study investigated the development and optimization of sol–gel synthesized Ni/ZrO2-Al2O3 catalysts, aiming to enhance the decomposition efficiency of CF4, a potent greenhouse gas. The research focused on improving catalytic performance at temp
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/43b3fb3460fa43aa9c88f5654e5ecea1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Bauerfeldt Glauco F., Arbilla Graciela
Publikováno v:
Journal of the Brazilian Chemical Society, Vol 11, Iss 2, Pp 121-128 (2000)
Numerical integration of the coupled differential equations which describe a chemical reacting system and sensitivity analysis are becoming increasingly important tools in chemical kinetics. In this work, a numerical modelling analysis of the chemica
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/91a3255af8db4a4e8a9d1a4dea5ae6ef
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
G. F. Bauerfeldt, G. Arbilla
Publikováno v:
Química Nova, Vol 21, Iss 1, Pp 25-33 (1998)
The plasma etching of semiconductor surfaces with fluorine-containing compounds has technological interest. Presently, considerable effort is being devoted to understand the chemistry involved. In this work, a numerical modeling analysis of the gas-p
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doajarticles::90e746bbf7bd7e21e2e84255269df10b
http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0100-40421998000100005
http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0100-40421998000100005
Autor:
Graciela Arbilla, G. F. Bauerfeldt
Publikováno v:
Química Nova, Vol 21, Iss 1, Pp 25-33 (1998)
Química Nova v.21 n.1 1998
Química Nova
Sociedade Brasileira de Química (SBQ)
instacron:SBQ
Química Nova, Volume: 21, Issue: 1, Pages: 25-33, Published: FEB 1998
Química Nova v.21 n.1 1998
Química Nova
Sociedade Brasileira de Química (SBQ)
instacron:SBQ
Química Nova, Volume: 21, Issue: 1, Pages: 25-33, Published: FEB 1998
The plasma etching of semiconductor surfaces with fluorine-containing compounds has technological interest. Presently, considerable effort is being devoted to understand the chemistry involved. In this work, a numerical modeling analysis of the gas-p
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::a764ed9092e89abf44d160a4bcd230e2
http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0100-40421998000100005
http://www.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0100-40421998000100005