Zobrazeno 1 - 10
of 232
pro vyhledávání: '"C.S. Yeh"'
Publikováno v:
Journal of Food and Drug Analysis. 10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Solid-State Electronics. 52:1884-1888
This paper reports the shallow trench isolation (STI)-induced mechanical stress-related Kink effect behaviour of the 40 nm PD SOI NMOS device. As verified by the experimentally measured data and the 2D simulation results, the Kink effect behaviour in
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Continuum Mechanics and Thermodynamics. 14:495-510
To model the response of magnetorheological (MR) materials, a continuum theory for a mixture consisting of a fluid continuum and a solid one is developed. In this mixture theory, the structure composed of the magnetizable particles in MR fluids is tr
Publikováno v:
International Journal of Engineering Science. 40:461-482
The macroscopic theory of magnetorheological (MR) fluids is investigated by the use of the tensorial and vectorial internal variables. After both variables are defined, the balance equations, entropy inequality and evolution equations can be obtained
Publikováno v:
Solid-State Electronics. 54:609-611
This paper reports the shallow trench isolation (STI)-related narrow channel effect (NCE) on the kink behaviour of the 40 nm PD SOI NMOS device. As verified by the experimentally measured data, with a smaller channel width, the onset of the kink effe
Publikováno v:
NDT & E International. 32:293-303
The eddy current distribution is studied in a metal bar containing an embedded defect inserted within an encircling coil. Furthermore, the impedance change of the coil regarding the characteristics of the defect is determined. The defects investigate
Publikováno v:
IEEE Electron Device Letters. 29:612-614
This letter reports the shallow-trench-isolation (STI)-induced mechanical-stress-related breakdown behavior of the 40-nm PD-SOI NMOS device. As verified by the experimentally measured data and the 2D simulation results, breakdown occurs at a higher d