Zobrazeno 1 - 10
of 97
pro vyhledávání: '"C. Sartel"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Abdallah Ougazzaden, C. Sartel, Simon Gautier, Nabila Maloufi, Jérôme Martin, François Jomard
Publikováno v:
Journal of Crystal Growth. 298:316-319
BGaN materials with good structural quality and surface morphology have been successfully grown on GaN template substrates by low pressure metal organic vapour phase epitaxy. TEB and NH3 were used as precursors of boron and nitrogen, respectively. Al
Publikováno v:
Journal of Crystal Growth. 298:428-432
Thin films of GaN were grown on template substrates of 4-μm-thick GaN layers on sapphire substrates by low-pressure metal organic vapour-phase epitaxy (LP-MOVPE) in a new-design reactor with the shape T. Wide range of growth temperature from 520 to
Publikováno v:
Materials Science Forum. :121-124
We report on the study of the p-type doping of 4H-SiC material using HexaMethylDiSilane/TriMethylAluminium/Propane (HMDS/TMA/P) system in place of the usual Silane/TriMethylAluminium/Propane (S/TMA/P) precursors. The influence of growth parameters su
Autor:
Marcin Zielinski, Sylvie Contreras, Yves Monteil, Caroline Blanc, Veronique Soulière, Jean Camassel, Sandrine Juillaguet, C. Sartel
Publikováno v:
Materials Science Forum. :117-120
We report an experimental investigation of the residual (n-type) and intentional (p-type) doping level of epitaxial layers grown on a-cut 4H-SiC substrates. Using SIMS, C(V) measurements, low temperature photoluminescence and Hall effect investigatio