Zobrazeno 1 - 7
of 7
pro vyhledávání: '"C. R. Miao"'
Publikováno v:
Journal of Materials Research. 12:1385-1390
In this paper we describe the preparation, microstructure, and x-ray excited luminescence of vapor-deposited CaWO4 films up to about 50 μm thick, comparing them to particulate CaWO4 phosphor screens, used in medical diagnostic imaging. Films that we
Autor:
Roger H. French, Charlie C. Torardi, Laurent Dieu, M. F. Lemon, Gillian A. M. Reynolds, David J. Jones, C. R. Miao, Greg P. Hughes, L. Wilson, M. H. Reilly, Peter F. Carcia
Publikováno v:
Engineered Nanostructural Films and Materials.
Optical lithography is one of the key enabling technologies in semiconductor microcircuit fabrication. As the demand for devices with higher performance and speed continue, the need for patterning circuits with finer features is driving optical micro
Autor:
Roger H. French, David J. Jones, Charlie C. Torardi, M. F. Lemon, Greg P. Hughes, L. Wilson, M. H. Reilly, C. R. Miao, Gillian A. M. Reynolds, Peter F. Carcia
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
We have developed a new attenuating embedded phase-shift mask blank for 193 nm lithography based on novel TiSi-nitride chemistry. At 193 nm, these materials offer high optical transmission, they are radiation damage resistant, stable in common chemic
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.