Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"C. Lockhart de la Rosa"'
Autor:
L. Panarella, B. Kaczer, Q. Smets, D. Verreck, T. Schram, D. Cott, D. Lin, S. Tyaginov, I. Asselberghs, C. Lockhart de la Rosa, G. S. Kar, V. Afanas'ev
Publikováno v:
2023 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS).
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
M. Rosmeulen, C. Lockhart de la Rosa, K. Willems, S. Fransen, B.-Y. Shih, D. Verreck, V. Kalangi, F. Yasin, H. Philipsen, Y. T. Set, N. Ronchi, W. Van Roy, O. Y. F. Henry, A. Arreghini, G. Van den bosch, A. Furnemont
Publikováno v:
2022 IEEE International Memory Workshop (IMW).
Autor:
Matty Caymax, D. Chiappe, C. Lockhart de la Rosa, Daniil Marinov, Daire J. Cott, Surajit Sutar, Abhinav Gaur, Jonathan Ludwig, Iuliana Radu, Steven Brems, Cedric Huyghebaert, Quentin Smets, Tom Schram, Geoffrey Pourtois, Alain Phommahaxay, Inge Asselberghs, D. Lin, T. Kumar Agarwal, Alessandra Leonhardt, S. El Kazzi, Devin Verreck, Goutham Arutchelvan
Publikováno v:
2018 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM).
To keep Moore's law alive, 2D materials are considered as a replacement for Si in advanced nodes due to their atomic thickness, which offers superior performance at nm dimensions. In addition, 2D materials are natural candidates for monolithic integr
Autor:
Cedric Huyghebaert, S. De Gendt, Vivek Mootheri, Stefanie Sergeant, C. Lockhart de la Rosa, Alessandra Leonhardt, Thomas Nuytten
Publikováno v:
ECS Journal of Solid State Science and Technology. 9:093016
Material or interface defectivity assessment of 2D materials remains a challenge, specifically in terms of simple techniques which can be integrated in a CMOS process line. Here we demonstrate an optical technique that assesses interface trap densiti
Autor:
M.M. Heyns, Surajit Sutar, Iuliana Radu, C. Lockhart de la Rosa, Philippe Matagne, Goutham Arutchelvan, S. De Gendt
Publikováno v:
2017 IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC).
We report for the first time a TCAD investigation on the spatial distribution of carrier injection at MoS 2 contacts. The proposed semi-classical approach successfully captures the experimentally observed contact behavior. Using the model, we identif
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.