Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"C. H. TWU"'
Autor:
James Cheng, C. H. Twu, Jackie Cheng, Chih Hsuan Chao, Xin Ren Yu, Junjin Lin, Sweet Chen, Adder Lee, William Chou, Jeffrey Cheng, Heng Jen Lee, Edgar Huang, Young Ham, Po Tsang Chen, Colbert Lu, Josh Tzeng
Publikováno v:
Photomask Technology 2019.
In this paper we perform a foundational study on the impact of quartz etched depth, and optical density (OD) of mask opaque area, the 3D effect in ArF immersion lithography at advanced process node. The after development inspection (ADI) critical dim
Autor:
William Chou, Mohamed Ramadan, James Cheng, Jeffrey Cheng, Sweet Chen, C. H. Twu, Michael Green, Colbert Lu, Hsin Fu Chou, Hong Jen Lee, Young Ham, Yohan Choi, Jackie Cheng, Chris Progler, Chih Hsuan Chao, Josh Tzeng, Adder Lee
Publikováno v:
Photomask Technology 2018.
Design weak points that have narrow process window and limits wafer yield, or hotspots, continue to be a major issue in semiconductor photolithography. Resolution enhancement techniques (RET) such as advanced optical proximity correction (OPC) techni
Autor:
C. H. Twu
Publikováno v:
AIChE Journal. 32:2091-2094
Les graphiques de Watson et le nomogramme de viscosite du Technical Data Book de l'API (American Petroleum Institute) peuvent etre generees en utilisant un principe de correspondance base sur les viscosites de deux fluides de reference. Le choix des
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
T. S. STORVICK, STANLEY I. SANDLER, KENNETH S. PITZER, J. M. PRAUSNITZ, T. S. KROLIKOWSKI, MICHAEL M. ABBOTT, E. U. FRANCK, A. BONDI, STANLEY B. ADLER, CALVIN F. SPENCER, HAL OZKARDESH, CHIA-MING KUO, DONALD B. ROBINSON, DING-YU PENG, HENG-JOO NG, S. W. HOPKE, T. E. DAUBERT, P. T. EUBANK, M. G. KESLER, B. I. LEE, RALPH SIMON, GRANT M. WILSON, MARK D. WEINER, D. G. ELLIOT, P. S. CHAPPELEAR, R. J. J. CHEN, R. L. MCKEE, JOHN S. ROWLINSON, HOWARD J. M. HANLEY, K. E. GUBBINS, C. H. TWU, MICHAEL MODELL, HOWARD G. HIPKIN, T. NITTA, E. A. TUREK, R. A. GREENKORN, K. C. CHAO, DAVID A. PALMER, EVAN BUCK, HELMUT KNAPP, HOWARD J. WHITE, JOSEPH J. MARTIN, JOHN P. O'CONNELL, M. R. MOLDOVER, JOHN S. GALLAGHER