Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"C. Fansler"'
Publikováno v:
Diamond and Related Materials. 19:778-782
Diamond etching is characterized using a microwave ECR plasma reactor with regard to etch rate selectivity, surface morphology, and feature size. Etching is performed on diamond substrates using a variety of etch mask materials including aluminum, ti
Publikováno v:
2008 IEEE 35th International Conference on Plasma Science.
This paper reports a Lambda Technologies, 2.45 GHz, 1.5 kW, microwave plasma-assisted etching reactor utilized to develop anisotropic and high rate etching processes on a variety of diamond substrates including polycrystalline, nanocrystalline and si
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Kniha
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.