Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"C. Demaco"'
Autor:
T. Q. Le, M. Kocsis, Anthony Muscat, Sonja Sioncke, L. Hall, David Hellin, Frank Holsteyns, S. Degendt, Twan Bearda, T. Kotani, M.M. Heyns, Atsuro Eitoku, Stephane Malhouitre, S. Garaud, Jim Snow, Guy Vereecke, Sophia Arnauts, Francesca Barbagini, Paul Mertens, M. Frank, K. Kenis, Martine Claes, C. Demaco, Wim Fyen, M. Lux, V. Parachiev, Harald Kraus, Rita Vos, Els Kesters, Kaidong Xu, Kurt Wostyn, K. Kim, Kenichi Sano, B. Onsia, K-t. Lee, Ronald Hoyer, J. Hoeymissen, Jens Rip
Publikováno v:
2006 International Symposium on VLSI Technology, Systems, and Applications.
This study will review some of the critical aspects of cleaning for sub-65 nm technologies. These issues include: surface preparation for high k dielectrics on Si and on Ge, metal gate cleaning and removal of small particles without creating damage t
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ac4879180f47b00ac6c9954718f5e23b
https://doi.org/10.1109/vtsa.2006.251095
https://doi.org/10.1109/vtsa.2006.251095
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.