Zobrazeno 1 - 10
of 853
pro vyhledávání: '"C-C. Han"'
Publikováno v:
Australian Journal of Earth Sciences. :1-24
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e843b68ee0ab2fdc088f4bfc85475f5f
https://doi.org/10.1080/08120099.2023.2194960
https://doi.org/10.1080/08120099.2023.2194960
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
2021 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC).
Chlorine-based plasma of BCl3/CCl4 etc. was applied to dry-etch PVD sputtered 1.2µm aluminum alloy with Al-Si-Cu 98%-1%-1%. AZ-1500 resist acted as the etching mask for Al. XRD of alloy with annealing temperature of 300°C, 400°C on TEOS oxide and
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::2d459b3aa0a713a80a5a2138235e03c8
https://doi.org/10.1109/cstic52283.2021.9461590
https://doi.org/10.1109/cstic52283.2021.9461590