Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Byeon, Heejun"'
Autor:
Basso, Luca, Kehayias, Pauli, Henshaw, Jacob, Ziabari, Maziar Saleh, Byeon, Heejun, Lilly, Michael P., Bussmann, Ezra, Campbell, Deanna M., Misra, Shashank, Mounce, Andrew M.
The recently-developed ability to control phosphorous-doping of silicon at an atomic level using scanning tunneling microscopy (STM), a technique known as atomic-precision-advanced-manufacturing (APAM), has allowed us to tailor electronic devices wit
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2207.14254
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.