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Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 25 May 2017 176:79-83
Publikováno v:
In Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, B August 2005 237(1-2):62-67
Autor:
Letzkus, F., Butschke, J., Irmscher, M., Kamm, F.M., Koepernik, C., Mathuni, J., Rau, J., Ruhl, G.
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 2004 73:282-288
Autor:
Letzkus, F. ∗, Butschke, J., Irmscher, M., Reuter, C., Springer, R., Eder, S., Löschner, H., Eberhardt, R., Mohaupt, M., Ehrmann, A., Mathuni, J., Panzer, B., Struck, T.
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 2001 57:213-218
Autor:
Loeschner, H., Stengl, G., Buschbeck, H., Chalupka, A., Lammer, G., Platzgummer, E., Vonach, H., Jager, de, P.W.H., Kaesmaier, R., Ehrmann, A., Hirscher, S., Wolter, A., Dietzel, A.H., Berger, R., Grimm, H., Terris, B.D., Bruenger, W.H., Adam, D., Boehm, M., Eichhorn, H., Springer, R., Butschke, J., Letzkus, F., Ruchhoeft, P., Wolfe, J.C., Engelstad, R.L.
Publikováno v:
Emerging Lithographic Technologies VI, Santa Clara, 2002, 595-606
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Recent studies carried out with Infineon Technologies have shown the utility of Ion Projection Lithography (IPL) for the manufacturing of integrated circuits. In cooperation with IBM Storage Technology Division the patterning of magnetic films by res
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::b05634122368f198bd303bb9a17cc43d
https://doi.org/10.1117/12.472336
https://doi.org/10.1117/12.472336
Autor:
Zaki, T., Butschke, J., Letzkus, F., Richter, H., Burghartz, J.N., Ante, F., Zschieschang, U., Klauk, H.
Publikováno v:
2011 Semiconductor Conference Dresden (SCD); 2011, p1-4, 4p
Autor:
Klein, C., Platzgummer, E., Klikovits, J., Piller, W., Loeschner, H., Bejdak, T., Dolezel, P., Kolarik, V., Klingler, W., Letzkus, F., Butschke, J., Irmscher, M., Witt, M., Pilz, W., Jaschinsky, P., Thrum, F., Hohle, C., Kretz, J., Nogatch, J. T., Zepka, A.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2009 Part 2, Issue 1, p72710N-72710N-12, 12p
Autor:
Gramss, J., Galler, R., Neick, V., Stoeckel, A., Weidenmueller, U., Melzer, D., Suelzle, M., Butschke, J., Baetz, U.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2009, Issue 1, p748827-748827-10, 10p
Autor:
Klein, C., Platzgummer, E., Loeschner, H., Gross, G., Dolezel, P., Tmej, M., Kolarik, V., Klingler, W., Letzkus, F., Butschke, J., Irmscher, M., Witt, M., Pilz, W.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p69211O-69211O-8, 8p
Autor:
Pain, L., Icard, B., Tedesco, S., Kampherbeek, B., Gross, G., Klein, C., Loeschner, H., Platzgummer, E., Morgan, R., Manakli, S., Kretz, J., Holhe, C., Choi, K.-H., Thrum, F., Kassel, E., Pilz, W., Keil, K., Butschke, J., Irmscher, M., Letzkus, F.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p69211S-69211S-12, 12p