Plasma-enhanced atomic layer deposition of highly transparent zinc oxy-sulfide thin films.

Autor: Bugot, C., Schneider, N., Lincot, D., Donsanti, F.

Publikováno v: Journal of Applied Physics; 2018, Vol. 123 Issue 18, pN.PAG-N.PAG, 8p, 1 Black and White Photograph, 1 Chart, 9 Graphs

Temperature effect during atomic layer deposition of zinc oxysulfide -Zn(O,S) buffer layers on Cu(In,Ga)(S,Se)2 synthesized by co-evaporation and electro-deposition techniques.

Autor: Bugot, C., Broussillou, C., Sorba, A., Parissi, L., Schneider, N., Lincot, D., Donsanti, F.

Publikováno v: 2015 IEEE 42nd Photovoltaic Specialist Conference (PVSC); 2015, p1-6, 6p

Synthesis of indium oxi-sulfide films by atomic layer deposition: The essential role of plasma enhancement.

Autor: Bugot C; Institut de Recherche et Développement sur l'Energie Photovoltaïque (IRDEP), UMR 7174 - EDF - CNRS - Chimie Paristech, 6 quai Watier, 78401 Chatou, France., Schneider N; Institut de Recherche et Développement sur l'Energie Photovoltaïque (IRDEP), UMR 7174 - EDF - CNRS - Chimie Paristech, 6 quai Watier, 78401 Chatou, France., Lincot D; Institut de Recherche et Développement sur l'Energie Photovoltaïque (IRDEP), UMR 7174 - EDF - CNRS - Chimie Paristech, 6 quai Watier, 78401 Chatou, France., Donsanti F; Institut de Recherche et Développement sur l'Energie Photovoltaïque (IRDEP), UMR 7174 - EDF - CNRS - Chimie Paristech, 6 quai Watier, 78401 Chatou, France.

Publikováno v: Beilstein journal of nanotechnology [Beilstein J Nanotechnol] 2013 Nov 13; Vol. 4, pp. 750-7. Date of Electronic Publication: 2013 Nov 13 (Print Publication: 2013).

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Plasma-Assisted Nanofabrication: The Potential and Challenges in Atomic Layer Deposition and Etching.

Autor: Chiappim, William, Neto, Benedito Botan, Shiotani, Michaela, Karnopp, Júlia, Gonçalves, Luan, Chaves, João Pedro, Sobrinho, Argemiro da Silva, Leitão, Joaquim Pratas, Fraga, Mariana, Pessoa, Rodrigo

Publikováno v: Nanomaterials (2079-4991); Oct2022, Vol. 12 Issue 19, p3497, 32p