Zobrazeno 1 - 10 of 125 pro vyhledávání: '"Bravman J"'
1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
2
Akademický článek
Elimination of Current Dissipation in High Transition Temperature Superconductors
Autor: Sun, J. Z., Lairson, B., Eom, C. B., Bravman, J., Geballe, T. H.
Publikováno v: Science, 1990 Jan . 247(4940), 307-309.
Externí odkaz: https://www.jstor.org/stable/2873626
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
4
Akademický článek
Quantitative analysis of dislocation arrangements induced by electromigration in a passivated Al (0.5 wt % Cu) interconnect.
Autor: Barabash, R. I., Ice, G. E., Tamura, N., Valek, B. C., Bravman, J. C., Spolenak, R., Patel, J. R.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 5/1/2003, Vol. 93 Issue 9, p5701, 6p, 1 Black and White Photograph, 1 Diagram, 3 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Effects of dielectric materials on electromigration failure.
Autor: Doan, J. C., Lee, S., Lee, S.-H., Flinn, P. A., Bravman, J. C., Marieb, T. N.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 6/15/2001, Vol. 89 Issue 12, p7797, 12p, 9 Black and White Photographs, 1 Diagram, 1 Chart, 9 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Observations of electromigration induced void nucleation and growth in polycrystalline and near-bamboo passivated Al lines.
Autor: Marieb, T., Flinn, P., Bravman, J. C., Gardner, D., Madden, M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 7/15/1995, Vol. 78 Issue 2, p1026, 7p, 9 Black and White Photographs
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Effects of barrier layer and annealing on abnormal grain growth in copper thin films.
Autor: Zielinski, E. M., Vinci, R. P., Bravman, J. C.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 10/15/1994, Vol. 76 Issue 8, p4516, 8p, 2 Black and White Photographs, 1 Diagram, 9 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Determination of high-field-enhanced emission rates with the constant capacitance-voltage transient technique.
Autor: Chang, M. B., Tomokage, H., Shiau, J. J., Bube, R. H., Bravman, J. C.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 4/1/1989, Vol. 65 Issue 7, p2734, 5p, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
The microstructure of Fe and Ag thin films grown by molecular-beam epitaxy on GaAs (001).
Autor: Chien, C. J., Bravman, J. C., Farrow, R. F. C.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 10/15/1990, Vol. 68 Issue 8, p4343, 3p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje