Zobrazeno 1 - 10
of 10
pro vyhledávání: '"Boyadjiev, Stefan"'
Autor:
Boyadjiev, Stefan I., Georgieva, Velichka, Stefan, Nicolaie, Stan, George E., Mihailescu, Natalia, Visan, Anita, Mihailescu, Ion N., Besleaga, Cristina, Szilágyi, Imre M.
Publikováno v:
In Applied Surface Science 30 September 2017 417:218-223
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Boyadjiev, Stefan I., Stefan, Nicolaie, Stan, George, Arvizu, Miguel, Szilágyi, Imre M., Visan, Anita, Mihailescu, Natalia, Mihailescu, Ion N., Besleaga, Cristina, Österlund, Lars, Gesheva, Kostadinka A.
Tungsten trioxide (WO3) thin films were grown by matrix assisted pulsed laser evaporation (MAPLE) and pulsed laser deposition (PLD), and their properties were investigated for electrochromic applications. The structure, morphology and optical propert
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______361::6f8c400a987b4542cf65b5b8dde04d1c
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-333099
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-333099
Autor:
Ahvenniemi, Esko, Akbashev, Andrew R., Ali, Saima, Bechelany, Mikhael, Berdova, Maria, Boyadjiev, Stefan, Cameron, David C., Chen, Rong, Chubarov, Mikhail, Cremers, Veronique, Devi, Anjana, Drozd, Viktor, Elnikova, Liliya, Gottardi, Gloria, Grigoras, Kestutis, Hausmann, Dennis M., Hwang, Cheol Seong, Jen, Shih-Hui, Kallio, Tanja, Kanervo, Jaana, Khmelnitskiy, Ivan, Kim, Do Han, Klibanov, Lev, Koshtyal, Yury, Krause, A. Outi I., Kuhs, Jakob, Kaerkkaenen, Irina, Kaariainen, Marja-Leena, Kääriäinen, Tommi, Lamagna, Luca, Lapicki, Adam A., Leskelä, Markku, Lipsanen, Harri, Lyytinen, Jussi, Malkov, Anatoly, Malygin, Anatoly, Mennad, Abdelkader, Militzer, Christian, Molarius, Jyrki, Norek, Malgorzata, Ozgit-Akgun, Cagla, Panov, Mikhail, Pedersen, Henrik, Piallat, Fabien, Popov, Georgi, Puurunen, Riikka L., Rampelberg, Geert, Ras, Robin H. A., Rauwel, Erwan, Roozeboom, Fred, Sajavaara, Timo, Salami, Hossein, Savin, Hele, Schneider, Nathanaelle, Seidel, Thomas E., Sundqvist, Jonas, Suyatin, Dmitry B., Torndahl, Tobias, van Ommen, J. Ruud, Wiemer, Claudia, Ylivaara, Oili M. E., Yurkevich, Oksana
Atomic layer deposition (ALD), a gas-phase thin film deposition technique based on repeated, self-terminating gas-solid reactions, has become the method of choice in semiconductor manufacturing and many other technological areas for depositing thin c
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______1593::af01abeadebbe96339dd544822489a20
http://hdl.handle.net/10138/313116
http://hdl.handle.net/10138/313116
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 2016, Vol. 1722 Issue 1, p140004-1-140004-4, 4p, 1 Black and White Photograph, 2 Graphs
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 2016, Vol. 1722 Issue 1, p140003-1-140003-4, 4p, 1 Color Photograph, 1 Black and White Photograph, 1 Graph