Zobrazeno 1 - 10 of 72 pro vyhledávání: '"Bork, Ingo"'
1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
2
Periodical
Model-based determination of optimum segment length of piecewise linear (PWL) mask shapes
Autor: Behringer, Uwe F., Finders, Jo, Mishra, Kushlendra, Sharma, Rachit, Bork, Ingo, Zuo, Mary, Zillner, Christof
Publikováno v: Proceedings of SPIE; September 2024, Vol. 13273 Issue: 1 p132731K-132731K-6, 1194586p
Zobrazit plný text záznamu
3
Periodical
A simulation-based methodology to analyze the impact of edge-length on curvilinear mask accuracy
Autor: Liang, Ted, Kim, Seong-Sue, Mishra, Kushlendra, Sharma, Rachit, Bork, Ingo, Zuo, Mary, Zillner, Christof
Publikováno v: Proceedings of SPIE; November 2023, Vol. 12751 Issue: 1 p127511E-127511E-6, 1147606p
Zobrazit plný text záznamu
4
Periodical
A study of applying mask process correction to constant width curvilinear SRAFs
Autor: Liang, Ted, Kim, Seong-Sue, Zuo, Mary, Mishra, Kushlendra, Sharma, Rachit, Bork, Ingo, Zeggaoui, Nassima
Publikováno v: Proceedings of SPIE; November 2023, Vol. 12751 Issue: 1 p127511F-127511F-6, 1147606p
Zobrazit plný text záznamu
5
Periodical
Efficient representation of full mask density maps in advanced mask data preparation flows
Autor: Liang, Ted, Kim, Seong-Sue, Sharma, Rachit, Bork, Ingo, Rajagopalan, Archana, Mishra, Kushlendra, Zuo, Mary
Publikováno v: Proceedings of SPIE; November 2023, Vol. 12751 Issue: 1 p127511C-127511C-5, 1147605p
Zobrazit plný text záznamu
6
Periodical
Integration of e-beam mask writer corrections in MPC applications
Autor: Liang, Ted, Kim, Seong-Sue, Bork, Ingo, Sharma, Rachit, Sharma, Malavika, Rajagopalan, Archana, Durvasula, Bhardwaj, Mishra, Kushlendra, Zuo, Mary
Publikováno v: Proceedings of SPIE; November 2023, Vol. 12751 Issue: 1 p127510Y-127510Y-8, 1147599p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Periodical
Mask process correction for laser writers
Autor: Kasprowicz, Bryan S., Liang, Ted, Bork, Ingo, Mishra, Kushlendra, Mukherjee, Samarpita, Sharma, Rachit, Zuo, Mary
Publikováno v: Proceedings of SPIE; December 2022, Vol. 12293 Issue: 1 p122930J-122930J-7, 1106378p
Zobrazit plný text záznamu
10
Periodical
A neural network assisted etch model for mask process correction
Autor: Kasprowicz, Bryan S., Liang, Ted, Zuo, Zhiheng (Mary), Sharma, Rachit, Bork, Ingo, Mishra, Kushlendra
Publikováno v: Proceedings of SPIE; December 2022, Vol. 12293 Issue: 1 p122930I-122930I-7, 1106378p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje