Zobrazeno 1 - 10
of 156
pro vyhledávání: '"Boissière, O."'
Autor:
Manke, C., Boissière, O., Weber, U., Barbar, G., Baumann, P.K., Lindner, J., Tapajna, M., Fröhlich, K.
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 2006 83(11):2277-2281
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Manke, C., Miedl, S., Boissiere, O., Baumann, P.K., Lindner, J., Schumacher, M., Brodyanski, A., Scheib, M.
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 2005 82(3):242-247
Autor:
Weber, U. *, Schumacher, M., Lindner, J., Boissière, O., Lehnen, P., Miedl, S., Baumann, P.K., Barbar, G., Lohe, C., McEntee, T.
Publikováno v:
In Microelectronics Reliability 2005 45(5):945-948
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Thermally stable high effective work function TaCN thin films for metal gate electrode applications.
Autor:
Adelmann, C., Meersschaut, J., Ragnarsson, L.-Å., Conard, T., Franquet, A., Sengoku, N., Okuno, Y., Favia, P., Bender, H., Zhao, C., O’Sullivan, B. J., Rothschild, A., Schram, T., Kittl, J. A., Van Elshocht, S., De Gendt, S., Lehnen, P., Boissière, O., Lohe, C.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; Mar2009, Vol. 105 Issue 5, pN.PAG, 8p, 2 Diagrams, 1 Chart, 8 Graphs
Autor:
Adelmann, C., Lehnen, P., Ragnarsson, L.-Å., Conard, T., Franquet, A., Chang, V. S., Rohr, E., Meersschaut, J., Boissière, O., Lohe, C., Schram, T., Van Elshocht, S., De Gendt, S.
Publikováno v:
MRS Online Proceedings Library; 2008, Vol. 1073 Issue 1, p1-6, 6p
Autor:
Adelmann, C., Lehnen, P., Van Elshocht, S., Zhao, C., Brijs, B., Franquet, A., Conard, T., Roeckerath, M., Schubert, J., Boissière, O., Lohe, C., De Gendt, S.
Publikováno v:
Chemical Vapor Deposition; Oct2007, Vol. 13 Issue 10, p567-573, 7p