Zobrazeno 1 - 10 of 25 pro vyhledávání: '"Bestwick, T. D."'
1
Akademický článek
Photoluminescence characterization of plasma exposed silicon surfaces.
Autor: Henry, A., Monemar, B., Lindström, J. L., Bestwick, T. D., Oehrlein, G. S.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 11/15/1991, Vol. 70 Issue 10, p5597, 7p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Nonintrusive wafer temperature measurement using in situ ellipsometry.
Autor: Kroesen, G. M. W., Oehrlein, G. S., Bestwick, T. D.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 3/1/1991, Vol. 69 Issue 5, p3390, 3p, 4 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Studies of the reactive ion etching of SiGe alloys.
Autor: Oehrlein, G. S., Kroesen, G. M. W., de Frésart, E., Zhang, Y., Bestwick, T. D.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1991, Vol. 9 Issue 3, p768-774, 7p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
MBE growth of Ge1− x Sn x devices with intrinsic disorder.
Autor: Holmes, S N, Gul, Y, Pullen, I, Gough, J, Thomas, K J, Jia, H, Tang, M, Liu, H, Pepper, M
Publikováno v: Journal of Physics D: Applied Physics; 9/27/2024, Vol. 57 Issue 38, p1-11, 11p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Selective dry etching of silicon with respect to germanium.
Autor: Oehrlein, G. S., Bestwick, T. D., Jones, P. L., Corbett, J. W.
Publikováno v: Applied Physics Letters; 4/9/1990, Vol. 56 Issue 15, p1436, 3p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Etching of GeSe2 chalcogenide glass and its pulsed laser deposited thin films in SF6, SF6/Ar and SF6/O2 plasmas.
Autor: Meyer, T, LeDain, G, Girard, A, Rhallabi, A, Bouška, M, Němec, P, Nazabal, V, Cardinaud, C
Publikováno v: Plasma Sources Science & Technology; Oct2020, Vol. 29 Issue 10, p1-14, 14p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Effects of Oxygen, Nitrogen and Fluorine on the Crystallinity of Tungsten by Hot-Wire Assisted ALD.
Autor: Yang Mengdi, Aarnink, Antonius A. I., Wolters, Rob A. M., Schmitz, Jurriaan, Kovalgin, Alexey Y.
Publikováno v: ECS Journal of Solid State Science & Technology; 2017, Vol. 6 Issue 12, pP839-P844, 6p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Kinetics of neutral particles in HCl and HBr plasmas at low pressures and high electron concentrations.
Autor: Efremov, A.
Publikováno v: Russian Microelectronics; Jul2016, Vol. 45 Issue 4, p278-284, 7p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje