Zobrazeno 1 - 10
of 80
pro vyhledávání: '"Besling, W."'
Publikováno v:
In Applied Surface Science 2003 203:400-403
Autor:
Hoogeland, D., Jinesh, K. B., Roozeboom, F., Besling, W. F. A., van de Sanden, M. C. M., Kessels, W. M. M.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; Dec2009, Vol. 106 Issue 11, p114107-1-114107-7, 7p, 1 Black and White Photograph, 1 Chart, 6 Graphs
Autor:
Hoyas, A. Martin, Schuhmacher, J., Shamiryan, D., Waeterloos, J., Besling, W., Celis, J.P., Maex, K.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 1/1/2004, Vol. 95 Issue 1, p381-388, 8p, 1 Black and White Photograph, 1 Diagram, 1 Chart, 7 Graphs
Autor:
Satta, A., Schuhmacher, J., Whelan, C. M., Vandervorst, W., Brongersma, S. H., Beyer, G. P., Maex, K., Vantomme, A., Viitanen, M. M., Brongersma, H. H., Besling, W. F. A.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 12/15/2002, Vol. 92 Issue 12, p7641, 6p, 1 Black and White Photograph, 1 Chart, 5 Graphs
Autor:
Gosset, Lg., Chhun, S., Besling, W., Vanypre, T., Farcy, A., Arnal, V., Mellier, M., Flake, J., Michaelson, L., Brun, P., Ollier, E., Ney, D., Girault, Vivette, Hopstaken, M., Jullian, Sophie, Kim, K., Jiang, Zx., Broussous, L., Humbert, A., Fang, H., Van, S., Shanmugasundram, A., Torres, J.
Publikováno v:
Advanced Metallization Conference 2005 AMC
Advanced Metallization Conference 2005 AMC, 2006, pp.587-593
Advanced Metallization Conference 2005 AMC, 2006, pp.587-593
International audience
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::936641ad83b18364139b5e88a7593dcf
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00466333
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00466333
Autor:
Besling, W., Cappon, E., Donders, M., Van der Ham, R., Smits, M., Van Soestbergen, E., Talsma, W., Woo, S.C.
Publikováno v:
Chemical Process Design 2977 + 2978
Document uit de collectie Chemische Procestechnologie
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::1cb63853510586d2d932595a0120b0a3
http://resolver.tudelft.nl/uuid:ca1e49b8-d39d-4ae8-a368-4ccf06ec1c7e
http://resolver.tudelft.nl/uuid:ca1e49b8-d39d-4ae8-a368-4ccf06ec1c7e
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Hinsinger, O., Fox, R., Sabouret, E., Goldberg, C., Verove, C., Besling, W., Brun, P., Josse, E., Monget, C., Belmont, O., Van Hassel, J., Sharma, B.G., Jacquemin, J.P., Vannier, P., Humbert, A., Bunel, D., Gonella, R., Mastromatteo, E., Reber, D., Farcy, A.
Publikováno v:
IEDM Technical Digest. IEEE International Electron Devices Meeting, 2004; 2004, p317-320, 4p