Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Beserman, Robert"'
Stress Induced Lateral Concentration Profiles in SiGe Layers Grown on Si(001) Non-Planar Substrates.
Publikováno v:
MRS Online Proceedings Library; 2000, Vol. 664 Issue 1, p1-6, 6p
Autor:
Roschek, Tobias, Rech, Bernd, Beyer, Wolfhard, Werner, Peter, Edelman, Felix, Chack, Albert, Weil, Raoul, Beserman, Robert
Publikováno v:
MRS Online Proceedings Library; 2000, Vol. 664 Issue 1, p1-6, 6p
Publikováno v:
In Solid State Communications 1988 67(3):317-319
Publikováno v:
In Solid State Communications 1985 56(7):553-556
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.