Zobrazeno 1 - 10
of 10
pro vyhledávání: '"Bernie Roman"'
Autor:
Wei Wu, Kevin Lucas, Pat Cook, Stephen Hsu, Doug Van Den Broeke, Chris Progler, Robert John Socha, Will Conley, Stefan van de Goor, Erika Schaefer, Arjan Verhappen, Kurt E. Wampler, Bernie Roman, Thomas Laidig, Bryan S. Kasprowicz, Jan Pieter Kuijten, Lloyd C. Litt
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :393-397
Various types of line ends have been evaluated for either straight CPL mask or hybrid type builds. The authors will focus on image line end shortening and the impact of through dose and focus performance for very high NA ArF imaging. Simulations on t
Autor:
Wei Wu, Matt Lassiter, Chris Progler, Jonathan L. Cobb, Lloyd C. Litt, Young-Mog Ham, Will Conley, Kevin Lucas, Mike Cangemi, Bernie Roman, Marc Cangemi, Bryan S. Kasprowicz, Rand Cottle, Nicolo Morgana
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Today novel RET solutions are gaining more and more attention from the lithography community that is facing new challenges in attempting to meet the new requirement of the SIA roadmap. Immersion, high NA, polarization, and mask topography, are becomi
Autor:
Will Conley, Nicoló Morgana, Bryan S. Kasprowicz, Mike Cangemi, Matt Lassiter, Lloyd C. Litt, Marc Cangemi, Rand Cottle, Wei Wu, Jonathan Cobb, Young-Mog Ham, Kevin Lucas, Bernie Roman, Chris Progler
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Autor:
Marc Cangemi, Lloyd C. Litt, Nicolo Morgana, Michael Cangemi, Christopher J. Progler, Young-Mog Ham, Rand Cottle, Will Conley, Wei Wu, Bernie Roman, Jonathan L. Cobb, Bryan S. Kasprowicz
Publikováno v:
Optical Microlithography XVIII.
Today the industry is filled with intensity-balanced c:PSM and much more focus is being placed on innovative approaches such as CPL (and in conjunction with IML for Contacts) and tunable transmission embedded attenuating phase shift mask (TT-EAPSM).
Autor:
Stephen Hsu, Thomas Laidig, Doug Van Den Broeke, Wei Wu, Bryan S. Kasprowicz, Bernie Roman, Arjan Verhappen, Kurt E. Wampler, Jan Pieter Kuijten, Lloyd C. Litt, Robert John Socha, Stephan van de Goor, Kevin Lucas, Will Conley, Chris Progler
Publikováno v:
Optical Microlithography XVIII.
Various types of line ends have been evaluated for either straight CPL mask or hybrid type builds. The authors will focus on image line end shortening and the impact of through dose and focus performance for very high NA ArF imaging. Simulations on t
Autor:
Chris Progler, Young-Mog Ham, Wei Wu, Mark Smith, Lloyd C. Litt, Mike Cangemi, Rusty Carter, Rand Cottle, Bernie Roman, Jonathan L. Cobb, Kevin Lucas, Bryan S. Kasprowicz, Will Conley, Marc Cangemi, Matt Lassiter
Publikováno v:
Optical Microlithography XVIII.
The lithography prognosticator of the early 1980"s declared the end of optics for sub-0.5μm imaging. However, significant improvements in optics, photoresist and mask technology continued through the mercury lamp lines (436, 405 & 365nm) and into la
Periodical
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.