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Autor:
Wim Bouman, Francis Fahrni, Wim de Boeij, Wolfgang Emer, Bernd Thüring, Thilo Pollak, Friso Klinkhamer
Publikováno v:
Optical Microlithography XXXIII.
Even with the large-scale adaption of EUV Lithography to High Volume Manufacturing, numerous device-critical product layers will still be exposed with Immersion Lithography Technology and therefore ZEISS and ASML keep investing in the next generation
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::43df687882430f506c386627e826f01c
https://doi.org/10.1117/12.2552063
https://doi.org/10.1117/12.2552063
Autor:
Bernd Thüring, Reiner Kühnau
Publikováno v:
Mathematische Nachrichten. 79:99-113
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::2b77c9b6426ab235b0dfc7700d86a381
https://doi.org/10.1002/mana.19770790109
https://doi.org/10.1002/mana.19770790109
Autor:
Smeets, Bart, Aben, Paul, Klinkhamer, Friso, van Damme, Jean Philippe, Paarhuis, Bart, Ganapathy Subramanian, Raaja, El Kodadi, Mohamed, Lichiardopol, Stefan, Pirati, Alberto, Vanoppen, Peter, de Boeij, Wim
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 4/7/2023, Vol. 12494, p124940R-124940R-13, 1p
Autor:
Klinkhamer, Friso, Smeets, Bart, Thijssen, Theo, Fahrni, Francis, de Boeij, Wim, El Kodadi, Mohamed, Pollak, Thilo, Emer, Wolfgang
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 1/18/2022, Vol. 12051, p120510K-120510K-10, 1p
Autor:
Stephan Paetrow
Mitte der 1960er Jahre entwickelte ein kleines Team bei ZEISS Oberkochen die ersten Objektive für die Belichtung integrierter Schaltkreise, die sogenannte Lithographieoptik.Schon damals gelang es, die Grenzen des Machbaren auszuloten und neu zu defi
Autor:
Stephan Paetrow
Mitte der 1960er Jahre entwickelte ein kleines Team bei ZEISS Oberkochen die ersten Objektive für die Belichtung integrierter Schaltkreise, die sogenannte Lithographieoptik.Schon damals gelang es, die Grenzen des Machbaren auszuloten und neu zu defi