Zobrazeno 1 - 10 of 42 pro vyhledávání: '"Berglund, C. N."'
1
Akademický článek
Electrochemical Charging of Thermal SiO2 Films by Injected Electron Currents.
Autor: Nicollian, E. H., Berglund, C. N., Schmidt, P. F., Andrews, J. M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Dec1971, Vol. 42 Issue 13, p5654-5664, 11p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Photoinjection Studies of Charge Distributions in Oxides of MOS Structures.
Autor: Powell, R. J., Berglund, C. N.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Oct1971, Vol. 42 Issue 11, p4390-4397, 8p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Photoinjection into SiO2: Electron Scattering in the Image Force Potential Well.
Autor: Berglund, C. N., Powell, R. J.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Feb1971, Vol. 42 Issue 2, p573-579, 7p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Avalanche Injection of Electrons into Insulating SiO2 Using MOS Structures.
Autor: Nicollian, E. H., Berglund, C. N.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Jun1970, Vol. 41 Issue 7, p3052-3057, 6p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Surface Barrier Junctions on Semiconducting Ferroelectrics.
Autor: Wemple, S. H., Kahng, D., Berglund, C. N., Van Uitert, L. G.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Feb1967, Vol. 38 Issue 2, p799-805, 7p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Temperature-Modulated Optical Absorption in Semiconductors.
Autor: Berglund, C. N.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Jul1966, Vol. 37 Issue 8, p3019-3023, 5p
Zobrazit plný text záznamu
7
Periodical
A financial assessment of maskless lithography.
Autor: Berglund, C. N.1, Leachman, Robert C.2
Publikováno v: Microlithography World. Feb2008, Vol. 17 Issue 1, p13-18. 4p.
Zobrazit plný text záznamu
9
Conference
Integrated circuit DFM framework for deep sub-wavelength processes.
Autor: Torres, J. A., Berglund, C. N.
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2005, Issue 1, p39-50, 12p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
I-V characteristics of thin-film gated photocathodes for electron-beam lithography.
Autor: Pei, Z., Berglund, C. N.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2002, Vol. 20 Issue 1, p65-70, 6p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje