Zobrazeno 1 - 10
of 22
pro vyhledávání: '"Benschop, J.P.H."'
Autor:
Shafikov, A., van de Kruijs, R.W.E., Benschop, J.P.H., Schurink, B., van den Beld, W.T.E., Houweling, Z.S., Kooi, B.J., Ahmadi, M., de Graaf, S., Bijkerk, F.
Publikováno v:
In Intermetallics May 2022 144
Publikováno v:
In Solid State Electronics May 2019 155:20-26
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Microelectronic Engineering, 1, 53, 681-684
The source is one of the critical factors for the success of Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL). Various possibilities to generate EUV radiation exist. The Laser Produced Plasma (LPP), the Synchrotron Wiggler and the gas discharge sources (Z-pinc
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::34e387ce2701df1b0dbb732bb2d9004f
http://resolver.tudelft.nl/uuid:abe68969-8056-4d2c-b5c5-18a0903f45cd
http://resolver.tudelft.nl/uuid:abe68969-8056-4d2c-b5c5-18a0903f45cd
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.