Zobrazeno 1 - 10
of 154
pro vyhledávání: '"Bearda, Twan"'
Autor:
Cho, Jinyoun, Debucquoy, Maarten, Recaman Payo, Maria, Malik, Shuja, Filipič, Miha, Radhakrishnan, Hariharsudan Sivaramakrishnan, Bearda, Twan, Gordon, Ivan, Szlufcik, Jozef, Poortmans, Jef
Publikováno v:
In Energy Procedia September 2017 124:842-850
Autor:
Filipič, Miha, Payo, Maria Recaman, Bearda, Twan, Depauw, Valerie, Radhakrishnan, Hariharsudan Sivaramakrishnan, Van Nieuwenhuysen, Kris, Filipek, Izabela Kuzma, Duerinckx, Filip, Debucquoy, Maarten, Gordon, Ivan, Szlufcik, Jozef, Poortmans, Jef
Publikováno v:
In Energy Procedia September 2017 124:38-46
Autor:
Meddeb, Hosny, Bearda, Twan, Abdulraheem, Yaser, Dimassi, Wissem, Ezzaouia, Hatem, Gordon, Ivan, Szlufcik, Jozef, Poortmans, Jef
Publikováno v:
In Superlattices and Microstructures August 2016 96:253-258
Autor:
Govaerts, Jonathan, Trompoukis, Christos, Radhakrishnan, Hariharsudan S., Tous, Loic, Granata, Stefano N., Carnemolla, Enrico G., Martini, Roberto, Marchegiani, Alessio, Karim, Marwa, Sharlandziev, Ivan, Bearda, Twan, Depauw, Valerie, Van Nieuwenhuysen, Kris, Gordon, Ivan, Szlufczik, Jozef, Poortmans, Jef
Publikováno v:
In Energy Procedia August 2015 77:871-880
Autor:
Meddeb, Hosny, Bearda, Twan, Abdelwahab, Ibrahim, Ferro, Valentina, O'Sullivan, Barry, Abdulraheem, Yaser, Ezzaouia, Hatem, Gordon, Ivan, Szlufcik, Jozef, Poortmans, Jef
Publikováno v:
In Energy Procedia 2014 55:818-826
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Xu, Menglei, Wang, Chong, Bearda, Twan, Simoen, Eddy, Radhakrishnan, Hariharsudan Sivaramakrishnan, Gordon, Ivan, Li, Wei, Szlufcik, Jozef, Poortmans, Jef
© 2018 IEEE. A fully dry and hydrofluoric-free low-temperature process has been developed to passivate n-type crystalline silicon (c-Si) surfaces. Particularly, the use of a hydrogen (H2) plasma treatment followed by in situ intrinsic hydrogenated a
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______1131::a126f31d8e319926d67966278040a15a
https://lirias.kuleuven.be/handle/123456789/630645
https://lirias.kuleuven.be/handle/123456789/630645
Publikováno v:
In Handbook of Silicon Wafer Cleaning Technology Edition: Third Edition. 2018:87-149
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.