Výsledky vyhledávání - "Bastiaensen, R. K. F."

Conference

Developments of a high-power, low-contamination laser-plasma source for EUV projection lithography.

Autor: Shmaenok, Leonid A., Bijkerk, Fred, Bruineman, C., Bastiaensen, R. K. F., Shevelko, Alexander P., Simanovski, Dmitrii M., Gladskikh, A. N., Bobashev, Sergei V.

Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov1995, Issue 1, p113-121, 9p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Extreme Ultraviolet Spectroscopy of a Laser Plasma Source for Lithography.

Autor: Shevelko, A P, Shmaenok, L A, Churilov, S S, Bastiaensen, R K F J, Bijkerk, F

Publikováno v: Physica Scripta; 1998, Vol. 57 Issue 2, p276-282, 7p

Zobrazit plný text záznamu

Periodical

A high-power, low-contamination laser plasma source for extreme UV lithography

Autor: Bijkerk, F., Shmaenok, L. A., Shevelko, A. P., Bastiaensen, R. K. F. J.

Publikováno v: Microelectronic Engineering; 1995, Vol. 27 Issue: 1 p299-299, 1p

Zobrazit plný text záznamu