Zobrazeno 1 - 10
of 56
pro vyhledávání: '"Bartl, Johannes"'
Publikováno v:
In Electrochimica Acta 1 February 2025 512
Autor:
Henning, Alex, Bartl, Johannes D., Wolz, Lukas, Christis, Maximilian, Rauh, Felix, Bissolo, Michele, Grünleitner, Theresa, Eichhorn, Johanna, Zeller, Patrick, Amati, Matteo, Gregoratti, Luca, Finley, Jonathan J., Rieger, Bernhard, Stutzmann, Martin, Sharp, Ian D.
Atomic layer deposition (ALD) is a key technique for the continued scaling of semiconductor devices, which increasingly relies on reproducible and scalable processes for interface manipulation of 3D structured surfaces on the atomic scale. While ALD
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2111.00054
Autor:
Liu, Kristina S., Henning, Alex, Heindl, Markus W., Allert, Robin D., Bartl, Johannes D., Sharp, Ian D., Rizzato, Roberto, Bucher, Dominik B.
Characterization of the molecular properties of surfaces under ambient or chemically reactive conditions is a fundamental scientific challenge. Moreover, many traditional analytical techniques used for probing surfaces often lack dynamic or molecular
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2103.15955
Autor:
Henning, Alex, Bartl, Johannes D., Zeidler, Andreas, Qian, Simon, Bienek, Oliver, Jiang, Chang-Ming, Paulus, Claudia, Rieger, Bernhard, Stutzmann, Martin, Sharp, Ian D.
Atomic layer deposition (ALD) is an essential tool in semiconductor device fabrication that allows the growth of ultrathin and conformal films to precisely form heterostructures and tune interface properties. The self-limiting nature of the chemical
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2102.03642
Autor:
Kliegl, Oliver1 (AUTHOR) oliver.kliegl@ur.de, Bartl, Johannes1 (AUTHOR), Bäuml, Karl-Heinz T.1 (AUTHOR)
Publikováno v:
Memory. May2023, Vol. 31 Issue 5, p705-714. 10p.
Publikováno v:
In Surface Science July 2020 697
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Schwoch, Sebastian, Dammann, Maximilian Peter, Bartl, Johannes Georg, Kretzschmar, Maximilian, Saske, Bernhard, Paetzold-Byhain, Kristin
Publikováno v:
Proceedings of the Design Society; May2024, Vol. 4, p2237-2246, 10p
Autor:
Kliegl, Oliver1 (AUTHOR) Oliver.Kliegl@psychologie.uni-regensburg.de, Bartl, Johannes1 (AUTHOR), Bäuml, Karl-Heinz T.1 (AUTHOR)
Publikováno v:
Journal of Experimental Psychology. Applied. Jun2024, Vol. 30 Issue 2, p282-292. 11p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.