Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Barreaux, Jonathan"'
Autor:
Huang, Qiushi, de Boer, Meint, Barreaux, Jonathan, Paardekooper, Daniel Mathijs, van den Boogaard, Toine, van de Kruijs, Robbert, Zoethout, Erwin, Louis, Eric, Bijkerk, Fred, Wood, Obert R., Panning, Eric M.
Publikováno v:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography V
Plasma based radiation sources optimized to emit 13.5 nm Extreme UV radiation also produce a significant amount of light at longer wavelengths. This so called out-of-band (OoB) radiation is detrimental for the imaging capabilities of an EUV lithograp
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::65d921e7fb540fc9d98d0673e8dd2c55
https://doi.org/10.1117/12.2046415
https://doi.org/10.1117/12.2046415
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.