Zobrazeno 1 - 10 of 45 pro vyhledávání: '"Barnes, Michael S."'
1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
2
Akademický článek
Optical ion energy measurements in a radio-frequency-induction plasma source.
Autor: O’Neill, James A., Barnes, Michael S., Keller, John H.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 2/15/1993, Vol. 73 Issue 4, p1621, 6p, 1 Diagram, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Large-signal time-domain modeling of low-pressure rf glow discharges.
Autor: Barnes, Michael S., Cotler, Tina J., Elta, Michael E.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 1/1/1987, Vol. 61 Issue 1, p81, 9p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
A three-dimensional model for inductively coupled plasma etching reactors: Azimuthal symmetry, coil properties, and comparison to experiments.
Autor: Kushner, Mark J., Collison, Wenli Z., Grapperhaus, Michael J., Holland, John P., Barnes, Michael S.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/1/1996, Vol. 80 Issue 3, p1337, 8p, 2 Black and White Photographs, 3 Diagrams, 2 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
6
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
8
Akademický článek
STUDY OF SELF-ORGANIZED DUST CHAINS WITH ACCOUNT FOR ION DRAG.
Autor: Salnikov, M. V.1 (AUTHOR) salnikovitsbras@gmail.com, Fedoseev, A. V.2 (AUTHOR), Sukhinin, G. I.1 (AUTHOR)
Publikováno v: Journal of Applied Mechanics & Technical Physics. Oct2023, Vol. 64 Issue 5, p737-747. 11p.
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
A Monte Carlo microtopography model for investigating plasma/reactive ion etch profile evolution.
Autor: Cotler, Tina J., Barnes, Michael S., Elta, Michael E.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1988, Vol. 6 Issue 2, p542-550, 9p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Studies of the low-pressure inductively-coupled plasma etching for a larger area wafer using plasma modeling and Langmuir probe.
Autor: Collison, Wenli Z., Ni, Tom Q., Barnes, Michael S.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1998, Vol. 16 Issue 1, p100-107, 8p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje