Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"B.M. Romanuk"'
Autor:
V.O. Morozhenko, V.I. Ivashchenko, L.A. Ivashchenko, O. K. Porada, P.M. Lytvyn, I.M. Hatsevych, L. A. Grishnova, B.M. Romanuk
Publikováno v:
2010 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference.
Amorphous silicon carbon nitride (SiCN) films were deposited by a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique using hexamethyl-disilazane as a main precursor by varying discharge power. The films were characterized with X-ray diffract
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4cfb69d54d56bd331b4e932f97909457
https://doi.org/10.1109/pvsc.2010.5617034
https://doi.org/10.1109/pvsc.2010.5617034
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.