Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"B. Scarfogliere"'
Autor:
S. Tedesco, B. Scarfogliere, Laurent Pain, M. Ribeiro, J.P. Coulomb, M. Morin, Cécile Gourgon
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :511-516
The chemically amplified concept is directly linked to the diffusion capabilities of the photo-generated acid. As a consequence of this principle, delay time effect during processing may affect lithographic performance. This paper discusses the post
Autor:
Tadashi Kusumoto, Bernard Dalzotto, Gilles L. Fanget, Masumi Suetsugu, S. Tedesco, Laurent Pain, M. Ribeiro, B. Scarfogliere, Cécile Gourgon, K. Patterson, Ryotaro Hanawa
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Chemical Amplification Resists (CAR) are now widely used in optical lithography since the introduction of the deep UV era. One advantage of the CARs is also their full compatibility with electron beam writing. This paper is focused on the development
Autor:
M. Ribeiro, R. Hanawa, C. Higgins, Cécile Gourgon, T. Kusumoto, M. Suetsugu, Laurent Pain, B. Scarfogliere, S. Tedesco, B. Dal’zotto
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 18:3388
The objective of this article was to study the resolution limits of different negative tone chemically amplified resists from both commercial and experimental formulations. Process optimization has been done on all samples and this work underlines th
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.