Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"B. Holil"'
Publikováno v:
Revue de Physique Appliquée
Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1985, 20 (3), pp.143-149. ⟨10.1051/rphysap:01985002003014300⟩
Revue de Physique Appliquée, Société française de physique / EDP, 1985, 20 (3), pp.143-149. ⟨10.1051/rphysap:01985002003014300⟩
Les poly(parachlorométhylstyrène) et poly(parabromostyrène) présentent des propriétés lithographiques intéressantes sous irradiation électronique. Une sensibilité élevée, associée à de bonnes propriétés de résistance à la gravure pla
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::021111440b76f93358c55e9b217abfd3
https://doi.org/10.1051/rphysap:01985002003014300
https://doi.org/10.1051/rphysap:01985002003014300
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 5:315-319
Poly-4-bromostyrene (PBS) is shown to have desirable combination of properties, including high sensitivity and high resolution. As a consequence, it is a very attractive candidate for high performance electron beam lithography. The dependence of resi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5a12ff2551e2328eecf8cc54be2f150f
https://doi.org/10.1016/0167-9317(86)90059-6
https://doi.org/10.1016/0167-9317(86)90059-6
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.