Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"B. Alaux"'
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 33:3-13
A complete optimisation of the copper CVD deposition was achieved with a bubbler delivery system. However the deposition rate was found to be limited to 30 nm/min. With a DLI delivery system, a major improvement of the deposition rate 100 nm/min was
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::03c579c87a05e5f81be8d249676fd470
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(96)00025-1
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(96)00025-1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Moyal EC; Department of Radiation Oncology, Institut Claudius Regaud, Toulouse, France. moyal.elizabeth@claudiusregaud.fr, Laprie A, Delannes M, Poublanc M, Catalaa I, Dalenc F, Berchery D, Sabatier J, Bousquet P, De Porre P, Alaux B, Toulas C
Publikováno v:
International journal of radiation oncology, biology, physics [Int J Radiat Oncol Biol Phys] 2007 Aug 01; Vol. 68 (5), pp. 1396-401. Date of Electronic Publication: 2007 Jun 14.