Zobrazeno 1 - 10
of 10
pro vyhledávání: '"B Treverrow"'
Autor:
X. Dong, A E Ross, R. Ganesan, Stephen N. Bathgate, B Treverrow, Marcela M.M. Bilek, David R. McKenzie, Dougal G. McCulloch, Jim G. Partridge, Billy J. Murdoch
Publikováno v:
Applied Surface Science. 365:336-341
Stoichiometric amorphous HfO2 films have been deposited by reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) from a Hf target in a 1:1 Ar:O2 atmosphere at pressures 2–4.5 mTorr. An optimum pressure was found for depositing smooth, high refr
Autor:
B Treverrow, R. Ganesan, P. Denniss, Dougal G. McCulloch, David R. McKenzie, Marcela M.M. Bilek
Publikováno v:
Journal of Applied Physics. 120:103301
We compare the use of externally applied pulsed and steady magnetic fields for the enhancement of deposition rate in reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS), using the deposition of amorphous hafnium oxide (a-HfO2) on Si as an examp
Autor:
R. Ganesan, Ian Falconer, B Treverrow, Jim G. Partridge, Dougal G. McCulloch, Billy J. Murdoch, D Xie, A E Ross, David R. McKenzie, Marcela M.M. Bilek
Publikováno v:
Journal of Physics D: Applied Physics. 49:245201
Instabilities in reactive sputtering have technological consequences and have been attributed to the formation of a compound layer on the target surface ('poisoning'). Here we demonstrate how the duty cycle of high power impulse magnetron sputtering
Autor:
Ian Falconer, Dougal G. McCulloch, Jim G. Partridge, B Treverrow, Billy J. Murdoch, Marcela M.M. Bilek, David R. McKenzie, A E Ross, Alexey Kondyurin, R. Ganesan
Publikováno v:
Plasma Sources Science and Technology. 24:035015
In conventional reactive magnetron sputtering, target poisoning frequently leads to an instability that requires the reactive gas flow rate to be actively regulated to maintain a constant composition of the deposited layers. Here we demonstrate that
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
R Ganesan, B J Murdoch, B Treverrow, A E Ross, I S Falconer, A Kondyurin, D G McCulloch, J G Partridge, D R McKenzie, M M M Bilek
Publikováno v:
Plasma Sources Science & Technology; Jun2015, Vol. 24 Issue 3, p1-1, 1p