Zobrazeno 1 - 10
of 22
pro vyhledávání: '"B E Deal"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
B. E. Deal, C. R. Helms
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 10:806-811
In this paper we report on studies of the mechanisms responsible for HF/H2O etching and cleaning of Si surfaces. From these studies we have clearly established that the role of water is to provide a condensed solvent medium for the HF on the surface.
Autor:
C. R. Helms, B. E. Deal
Publikováno v:
Journal of the IEST. 35:21-26
In this paper we report on studies of the mechanisms responsible for HF/H2O etching and cleaning of Si surfaces. From these studies we have clearly established that the role of water is to provide a condensed solvent medium for the HF on the surface.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of The Electrochemical Society. 147:3892
A novel method for reducing metallic contamination of silicon wafer surfaces and oxide layers during high temperature processing is described. It involves the application of an electric field across wafers exposed to oxidizing and inert annealing amb
Autor:
P. A. Crossley, B. E. Deal
Publikováno v:
Annual Review of Materials Science. 11:321-351
Publikováno v:
Journal of The Electrochemical Society. 125:2024-2027
Autor:
B. E. Deal, D. W. Hess
Publikováno v:
Journal of The Electrochemical Society. 122:1123-1127