Zobrazeno 1 - 10
of 23
pro vyhledávání: '"Bézard, Philippe"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Bézard, Philippe
Le coût de la poursuite de la miniaturisation des transistors en-dessous de 14 nm demande l’introductionde techniques moins onéreuses comme l’approche auto-alignée par copolymères à blocs (DSA) combinéeà la lithographie 193 nm. Etudiée pr
Externí odkaz:
http://www.theses.fr/2016GREAT007/document
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Arias-Zapata, Javier, Cordeiro, Julien, Böhme, Sophie, Girardot, Cécile, Garnier, Jérôme, Bézard, Philippe, Ntetsikas, Konstantinos, Liontos, George, Avgeropoulos, Apostolos, Peyrade, David, Zelsmann, Marc
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 15 June 2015 141:155-159
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Chevalier, Xavier, Gomes correia, Cindy, POUND-LANA, Gwenaelle, Bézard, Philippe, SÉRÉGÉ, Matthieu, PETIT-ETIENNE, Camille, Gay, Guillaume, Cunge, Gilles, CABANNES-BOUÉ, Benjamin, Nicolet, Célia, Navarro, Christophe, Cayrefourcq, Ian, Müller, Marcus, Hadziioannou, Georges, Iliopoulos, Ilias, Fleury, Guillaume, Gomez Correia, Cindy, Zelsmann, M.
Publikováno v:
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII, Feb 2021, Online Only, France. pp.26, ⟨10.1117/12.2583717⟩
Proc. SPIE 11612, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII
SPIE Advanced Lithography conference – Alternative Lithographic Technologies
SPIE Advanced Lithography conference – Alternative Lithographic Technologies, Feb 2021, San Jose, USA, France. pp.26, ⟨10.1117/12.2583717⟩
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII, Feb 2021, Online Only, France. pp.26, ⟨10.1117/12.2583717⟩
Proc. SPIE 11612, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII
SPIE Advanced Lithography conference – Alternative Lithographic Technologies
SPIE Advanced Lithography conference – Alternative Lithographic Technologies, Feb 2021, San Jose, USA, France. pp.26, ⟨10.1117/12.2583717⟩
Results for the self-assembly of lamellar silicon-containing high-χ block copolymers (BCP) with innovative neutral top-coat design are presented. We demonstrate that these materials and associated processes are compatible with a standard lithographi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::eadbf2006f9b9cd3348720c9fd567c1c
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03448358
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03448358
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.