Influence of substrate on the structure of predominantly anatase TiO 2 films grown by reactive sputtering.

Autor: Brandt IS; Laboratório de Filmes Finos e Superfícies, Universidade Federal de Santa Catarina Florianópolis 88040-900 Brazil iuri.brandt@pgfsc.ufsc.br andre.pasa@ufsc.br.; Programa de Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais, Universidade Federal de Santa Catarina Florianópolis 88040-900 Brazil., Plá Cid CC; Laboratório de Filmes Finos e Superfícies, Universidade Federal de Santa Catarina Florianópolis 88040-900 Brazil iuri.brandt@pgfsc.ufsc.br andre.pasa@ufsc.br., Azevedo CGG; Faculdade de Ciências, Universidade Estadual Paulista UNESP Bauru SP 17033-360 Brazil jhdsilva@fc.unesp.br., Pereira ALJ; Universidade Federal da Grande Dourados UFGD Dourados MS 79804-970 Brazil., Benetti LC; Laboratório de Filmes Finos e Superfícies, Universidade Federal de Santa Catarina Florianópolis 88040-900 Brazil iuri.brandt@pgfsc.ufsc.br andre.pasa@ufsc.br., Ferlauto AS; Departamento de Física, Universidade Federal de Minas Gerais Belo Horizonte 31270-901 Brazil., Dias da Silva JH; Faculdade de Ciências, Universidade Estadual Paulista UNESP Bauru SP 17033-360 Brazil jhdsilva@fc.unesp.br., Pasa AA; Laboratório de Filmes Finos e Superfícies, Universidade Federal de Santa Catarina Florianópolis 88040-900 Brazil iuri.brandt@pgfsc.ufsc.br andre.pasa@ufsc.br.

Publikováno v: RSC advances [RSC Adv] 2018 Feb 14; Vol. 8 (13), pp. 7062-7071. Date of Electronic Publication: 2018 Feb 14 (Print Publication: 2018).