Výsledky vyhledávání - "Avakaw, Syarhei M."

Maskless Lithography

Autor: Avakaw Syarhei M., Plebanovich Vladimir I.

Publikováno v: Nanoindustry Russia. :200-202

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5b2dd5a01c49f4cf56819a3e05abfed0
https://doi.org/10.22184/1993-8578.2018.82.200.202

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Semi-transparent isolated defect detection by die-to-database mask inspection using virtual scanning algorithms for sub-pixel resolution.

Autor: Avakaw, Syarhei M.

Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2004, Issue 1, p26-35, 10p

Zobrazit plný text záznamu