Zobrazeno 1 - 10
of 132
pro vyhledávání: '"Arnell, R."'
Publikováno v:
In Journal of Chromatography A 2008 1212(1):89-97
Publikováno v:
In Computers and Chemical Engineering 2006 30(9):1381-1391
In the field of magnetron sputtering, it is well established that mid-frequency (20–350 kHz) pulsed processing offers many advantages over continuous DC processing for the reactive deposition of dielectric films. By periodically reversing the targe
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______128::c95488c3d95a1bfb7af09204a0c2f0ce
https://e-space.mmu.ac.uk/83495/
https://e-space.mmu.ac.uk/83495/
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.