Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Andrei V. Li-Fatou"'
Publikováno v:
MRS Proceedings. 514
Titanium (Ti) and titanium nitride (TiN) films are widely used as barrier stack to prevent junction spiking. It is also an important material for an anti-reflection coating (ARC) on aluminum (Al) films to facilitate lithography processes during multi
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.