Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Analytical co-relation"'
Publikováno v:
Applied Surface Science Advances, Vol 24, Iss , Pp 100638- (2024)
In this experimental investigation, a Physical Vapor Deposition (PVD) process was employed to deposit TiAlN coating onto a Si substrate. The nitrogen flow rate, bias voltage, and substrate-to-target distance were selected as input parameters, each wi
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/0064cc58ae2e489b8ff2d0462821f255
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.