Zobrazeno 1 - 10 of 293 pro vyhledávání: '"Alshareef, H. N."'
1
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
2
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
3
Akademický článek
Role of phonon scattering by elastic strain field in thermoelectric Sr1-xYxTiO3-δ.
Autor: Bhattacharya, S., Dehkordi, A. Mehdizadeh, Tennakoon, S., Adebisi, R., Gladden, J. R., Darroudi, T., Alshareef, H. N., Tritt, T. M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 2014, Vol. 115 Issue 22, p223712-1-223712-9, 9p, 1 Chart, 7 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Enhanced carrier density in Nb-doped SrTiO3 thermoelectrics.
Autor: Ozdogan, K., Upadhyay Kahaly, M., Sarath Kumar, S. R., Alshareef, H. N., Schwingenschlögl, U.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Mar2012, Vol. 111 Issue 5, p054313, 5p, 1 Diagram, 4 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Lattice dynamics and substrate-dependent transport properties of (In, Yb)-doped CoSb3 skutterudite thin films.
Autor: Sarath Kumar, S. R., Cha, Dongkyu, Alshareef, H. N.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Oct2011, Vol. 110 Issue 8, p083710, 7p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
A simplified approach to estimating total trap contributions in negative bias temperature instability.
Autor: Devine, R. A. B., Mee, J. K., Hjalmarson, H. P., Quevedo-Lopez, M. A., Alshareef, H. N.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Jul2009, Vol. 106 Issue 2, p024508-1-024508-5, 5p, 7 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Slow trap charging and detrapping in the negative bias temperature instability in HfSiON dielectric based field effect transistors.
Autor: Devine, R. A. B., Alshareef, H. N., Quevedo-Lopez, M. A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Dec2008, Vol. 104 Issue 12, p124109, 5p, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Electrical bias stressing and radiation induced charge trapping in HfO2/SiO2 dielectric stacks.
Autor: Devine, R. A. B, Busani, T., Quevedo-Lopez, Manuel, Alshareef, H. N.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 5/15/2007, Vol. 101 Issue 10, p104101, 4p, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Thermal response of Ru electrodes in contact with SiO2 and Hf-based high-k gate dielectrics.
Autor: Wen, H.-C., Lysaght, P., Alshareef, H. N., Huffman, C., Harris, H. R., Choi, K., Senzaki, Y., Luan, H., Majhi, P., Lee, B. H., Campin, M. J., Foran, B., Lian, G. D., Kwong, D.-L.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/15/2005, Vol. 98 Issue 4, p043520, 6p, 3 Black and White Photographs, 1 Diagram, 1 Chart, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje