Zobrazeno 1 - 10
of 119
pro vyhledávání: '"Alessandro Vaglio"'
Autor:
Luciano Canova, Alessandro Vaglio
Publikováno v:
Economics: Journal Articles (2010)
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/7a96427fa611428291616f904e873426
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Optical and EUV Nanolithography XXXVI.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9ff342f68f684e9739b234933ccbd8bd
https://doi.org/10.1117/12.2658394
https://doi.org/10.1117/12.2658394
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Photomask Technology 2022.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8740487c009cc56864fdd8e7fd4e129a
https://doi.org/10.1117/12.2642695
https://doi.org/10.1117/12.2642695
Autor:
Prem Panneerchelvam, Chad Huard, Ankur Agarwal, Alessandro Vaglio Pret, Antonio Mani, Roel Gronheid, Marc Demand, Kaushik Kumar
Publikováno v:
Metrology, Inspection, and Process Control XXXVI.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e5e0def3674b5c5bcb7a2b7a0642f45c
https://doi.org/10.1117/12.2614095
https://doi.org/10.1117/12.2614095
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering October 2012 98:138-141
Autor:
Vijaya-Kumar, M.K., Constantoudis, Vassilios, Gogolides, Evangelos, Pret, Alessandro Vaglio, Gronheid, Roel
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering February 2012 90:126-130
Autor:
Prem Panneerchelvam, Ankur Agarwal, Chad M. Huard, Alessandro Vaglio Pret, Antonio Mani, Roel Gronheid, Marc Demand, Kaushik Kumar, Sara Paolillo, Frederic Lazzarino
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B. 40:062601
Quantitatively accurate, physics-based, computational modeling of etching and lithography processes is essential for modern semiconductor manufacturing. This paper presents lithography and etch models for a trilayer process in a back end of the line
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3de34cf34076288e2ffb986dcf6a3ade
https://doi.org/10.1116/6.0002059
https://doi.org/10.1116/6.0002059
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.