Zobrazeno 1 - 1
of 1
pro vyhledávání: '"Al:WS2薄膜"'
Publikováno v:
Kongjian kexue xuebao, Vol 43, Pp 899-906 (2023)
采用磁控溅射技术制备了Al:WS2薄膜。为考查不同气氛热冲击下Al:WS2薄膜摩擦学性能的响应机理，采用自行研制的温度交变真空摩擦试验机开展了真空、氮气及氧气气氛的–100～+250℃的热冲击
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/5c73fb1bdaba4c12b3d9749af2e3816a
