Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Akio Kanamaru"'
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science and Technology. 16:1764-1766
A fast computation method to correct for the proximity effect in electron‐beam lithography is studied for practical uses. Formerly, to compute the proximity effect a double integral of two Gaussian distribution functions was applied. To save comput
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::51d3e9b092fae625a3915a1cd32731a8
https://doi.org/10.1116/1.570289
https://doi.org/10.1116/1.570289
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.