Výsledky vyhledávání - "Abir Pramanik"

Double Patterning Lithography (DPL)-compliant layout construction (DCLC) with area-stitch usage tradeoff

Autor: Debesh K. Das, Debasis Pal, Parthasarathi Dasgupta, Abir Pramanik

Publikováno v: VDAT

A layout decomposition in Double Patterning Lithography (DPL) is considered to be potential for processing nodes at or below 32 nm. In this method, two features are assigned different colors corresponding to different exposures if the spacing between

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::60d127db5b85a85aeaf66364858c810e
https://doi.org/10.1109/isvdat.2016.8064875

Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání