Zobrazeno 1 - 9
of 9
pro vyhledávání: '"Abdukayumov K"'
Autor:
Mallet, P., Ibrahim, F., Abdukayumov, K., Marty, A., Vergnaud, C., Bonell, F., Chshiev, M., Jamet, M., Veuillen, J-Y.
Publikováno v:
Physical Review Materials 7, L121001 (2023)
We present a study by Scanning Tunneling Microscopy, supported by ab initio calculations, of the interaction between graphene and monolayer (semiconducting) PtSe$_2$ as a function of the twist angle ${\theta}$ between the two layers. We analyze the P
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2311.08165
Autor:
Abdukayumov, K., Mičica, M., Ibrahim, F., Vergnaud, C., Marty, A., Veuillen, J. -Y., Mallet, P., de Moraes, I. Gomes, Dosenovic, D., Wright, A., Tignon, J., Mangeney, J., Ouerghi, A., Renard, V., Mesple, F., Bonell, F., Okuno, H., Chshiev, M., George, J. -M., Jaffrès, H., Dhillon, S., Jamet, M.
Terahertz (THz) Spintronic emitters based on ferromagnetic/metal junctions have become an important technology for the THz range, offering powerful and ultra-large spectral bandwidths. These developments have driven recent investigations of two-dimen
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2305.06895
Autor:
Vélez-Fort, E., Hallal, A., Sant, R., Guillet, T., Abdukayumov, K., Marty, A., Vergnaud, C., Jacquot, J. -F., Jalabert, D., Fujii, J., Vobornik, I., Rault, J., Brookes, N. B., Longo, D., Ohresser, P., Ouerghi, A., Veuillen, J. -Y., Mallet, P., Boukari, H., Okuno, H., Chshiev, M., Bonell, F., Jamet, M.
We report on a novel material, namely two-dimensional (2D) V$_{1-x}$Pt$_x$Se$_2$ alloy, exhibiting simultaneously ferromagnetic order and Rashba spin-orbit coupling. While ferromagnetism is absent in 1T-VSe$_2$ due to the competition with the charge
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2105.10022
Autor:
Skopin, E.V., Abdukayumov, K., Abi Younes, P., Anikin, M., Roussel, H., Deschanvres, J.-L., Renevier, H.
Publikováno v:
In Thin Solid Films 1 April 2021 723
Autor:
Skopin, E.V., Abdukayumov, K., Abi Younes, P., Anikin, M., Roussel, H., Deschanvres, J.-L., Renevier, H.
Publikováno v:
Thin Solid Films
Thin Solid Films, Elsevier, 2021, 723, pp.138591. ⟨10.1016/j.tsf.2021.138591⟩
Thin Solid Films, 2021, 723, pp.138591. ⟨10.1016/j.tsf.2021.138591⟩
Thin Solid Films, Elsevier, 2021, 723, pp.138591. ⟨10.1016/j.tsf.2021.138591⟩
Thin Solid Films, 2021, 723, pp.138591. ⟨10.1016/j.tsf.2021.138591⟩
International audience; TiO2 Atomic Layer Deposition (ALD) is used in microelectronics due to its ability to produce conformal thin films whose thickness is controlled at the subnanometer scale. Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) (TDMAT) and water a
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::a44d99a6ccf9022cab73d65d377ae95d
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03318892/document
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03318892/document
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.