Zobrazeno 1 - 10
of 11 996
pro vyhledávání: '"ALD PROCESS"'
Autor:
Mohapatra, Debananda a, Ansari, Mohd Zahid b, Son, Yeseul a, Lee, Sanghyuk c, Kang, Youngho c, ⁎⁎, Kim, Soo-Hyun a, d, ⁎
Publikováno v:
In Materials Today Nano March 2025 29
Autor:
Daniel Hessler, Ricardo Olivo, Tim Baldauf, Konrad Seidel, Raik Hoffmann, Chaiwon Woo, Maximilian Lederer, Yannick Raffel
Publikováno v:
Memories - Materials, Devices, Circuits and Systems, Vol 7, Iss , Pp 100095- (2024)
This article reports an improvement in the low-frequency noise characteristics in hafnium oxide-based (HfO2) field-effect transistors by different precursor materials at ALD process. The Hafniumoxide on the devices were fabricated once with organic p
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/f020b3fa7bcf48608bfe1a3e39669a37
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Surfaces and Interfaces April 2024 47
Autor:
Neubieser, R.-M., Wree, J.-L., Jagosz, J., Becher, M., Ostendorf, A., Devi, A., Bock, C., Michel, M., Grabmaier, A.
Publikováno v:
In Micro and Nano Engineering June 2022 15
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Applied Surface Science 1 January 2021 535