Zobrazeno 1 - 10
of 18
pro vyhledávání: '"A.T. Yuen"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
IEEE/Cornell Conference on Advanced Concepts in High Speed Semiconductor Devices and Circuits, 1987. Proceedings..
Publikováno v:
Scopus-Elsevier
For short distance multimode data link systems, the large area surface emitting InGaAs QW laser with spectral width of up to 1 nm has been shown to operate in multimode links with RIN less than -120 dB/Hz. SELs have been specifically designed for thi
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
IEEE Electron Device Letters. 7:145-148
This paper proposes a novel method to increase the noise margins achievable with III-V DCFL digital circuits. The idea is to increase the forward-biased potential obtainable on the gate of the enhancement device before substantial conduction occurs.
Publikováno v:
IEEE Journal of Solid-State Circuits. 24:57-61
A 32 K synchronous RAM using a two-transistor basic cell has been developed for use with a 100 K compact gate array. The basic cell consists of only two transfer gates and a storage capacitor and thus results in a very dense memory array. The RAM ope
Publikováno v:
IEEE Electron Device Letters. 8:272-274
A novel processing scheme has been demonstrated for the fabrication of GaAs/AlGaAs semiconductor-insulator-semiconductor FET's (SISFET's). It was shown that a self-aligned ohmic (SAO) metal deposition could be used, without any additional ion implant
Publikováno v:
MRS Proceedings. 45
A comparison has been made between rapid thermal annealing (RTA) and furnace annealing (FA) of implanted GaAs. Hall measurements showed consistently higher electrical activation of n-type (Si-5E12 cm −2) implants with FA and higher electrical activ
Publikováno v:
IEEE Electron Device Letters. 7:556-557