Výsledky vyhledávání - "霍金向"

Akademický článek

化学机械抛光中摩擦润滑与化学行为研究进展.

Autor: 霍金向^1,2,3 17800309312@163.com, 高宝红^1,2,3, 李雯浩宇^1,2,3, 贺斌^1,2,3, 梁斌^1,2,3, 刘鸣瑜^1,2,3, 陈旭华^1,2,3

Publikováno v: Applied Chemical Industry. Jun2024, Vol. 53 Issue 6, p1416-1420. 5p.

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

阴/非离子型表面活性剂对 CMP 后 SiO2 颗粒的去除效果. (Chinese)

Autor: 刘鸣瑜, 高宝红, 梁斌, 霍金向, 李雯浩宇, 贺斌

Publikováno v: Semiconductor Technology; May2024, Vol. 49 Issue 5, p461-470, 10p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

CMP抛光垫表面及材料特性对抛光效果影响的研究进展. (Chinese)

Autor: 梁斌, 高宝红, 刘鸣瑜, 霍金向, 李雯浩宇, 贺斌, 董延伟

Publikováno v: Micronanoelectronic Technology; Apr2024, Vol. 61 Issue 4, p1-11, 11p

Zobrazit plný text záznamu